退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設計的。

      可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復注入的損傷，移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。

      燃氣退火爐中鋼帶在加熱和結(jié)冰中張應力的變遷，對帶鋼繼續(xù)屈曲綜合時，爐輥生動不動，在帶鍋縱向?qū)ΨQ線的節(jié)點上強加橫向?qū)ΨQ束縛，將張應力p分步加載到帶鋼兩截斷邊上所示變化。

      在連退式的燃氣退火爐內(nèi)加熱段和快冷段，帶柔和爐時差異大，爐輥熱變形顯然，因而，白文取舍加熱段和快冷段的爐輥和帶鑰為鉆研目標。并依據(jù)當場工藝規(guī)程，取舍加熱段爐溫為820℃，張力為7kN，快冷段爐溫為400℃，張力為11kN。

      別離構(gòu)建限元模子，對爐輥熱變形和帶鋼屈曲變形繼續(xù)劃算。

      退火爐理論生產(chǎn)中，爐輥在連退爐內(nèi)的轉(zhuǎn)速達200mlmin之上，當爐輥轉(zhuǎn)動工夫較長時，能夠疏忽爐輥沿周向和徑向的時差，只要思忖輥身熱度散布不均導致的爐輥熱變形，采納所示的軸對稱模子劃算爐輥的熱變形，爐輥初始輥形為單錐度輥，其形態(tài)所示。

      別離采納熱變形前后的爐輥形態(tài)對帶鋼繼續(xù)屈曲劃算，思忖到連退爐內(nèi)的空間對稱性和周期性，構(gòu)建如圖所示的無限元模子繼續(xù)屈曲綜合。

      其中，帶鋼為冷軋后的呆滯帶鋼，帶寬為1600mm，帶厚為0.8mm，選用四邊形薄殼單元作為帶鋼單元，帶鋼兩截斷邊坐落高低爐輥的旁邊地位所示。

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